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Instrument de mesure d'état de surface ou de forme 52

Abw Concept 1
Ac Automation - Actemium 1
Accretech 5
Agfa Ndt 1
Altimet 2
Ametek 2
Blum Novotest 1
Bruker Alicona 7
Carl Zeiss 1
Contrôle Mesure Systèmes 1
Csm Instruments 2
Gom 1
Hexagon 1
Ibs Precision Engineering 1
Jenoptik 2
Keyence 1
Lord Ingénierie 1
Mahr 6
Metris 1
Micro-Epsilon 3
Mitutoyo 5
Nanojura 1
Nikon Metrology 1
Satimage 1
Steinbichler 1
Trimos Sylvac Métrologie 1
Zoller 1

Les actualités sont triées par ordre chronologique inversé :

MICRO EPSILON : système de mesure de géométrie et de défaut de forme des alésages

MICRO EPSILON met sur le marché un système de mesure de géométrie et d...
19/05/2009

Destiné au contrôle en ligne des alésages ce système se présente sous la forme d...

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MICRO-EPSILON propose désormais des capteurs laser spécialement destinés à la mesure optique de distances pour matériaux directement réfléchissants

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14/05/2008

La nouvelle série de capteurs optoNCDT 1700 DR vient compléter la large gamme de...

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Spécial INDUSTRIE 2008 : le RSX (Revetest Xpress) Scratch Testeur de CSM INSTRUMENT est l'outil idéal pour la mesure d'adhésion et de résistance à la rayure des revêtements

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10/03/2008

Le RSX (Revetest Xpress) Scratch Testeur est l'outil idéal pour la mesure d'adhé...

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Le nanoindenteur Xpress (0.1 – 500 mN) de CSM INSTRUMENT est une solution optimale pour les mesures de dureté et de module élastique à l'échelle nanométrique

Le nanoindenteur Xpress (0.1 – 500 mN) de CSM INSTRUMENT est une solut...
23/07/2007

Après plus de 30 ans d'expérience dans le domaine de la caractérisation des surf...

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ALTIMET annonce son premier instrument portable autonome destiné à la métrologie optique profilométrique et surfacique des états de surface en ligne de production

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16/10/2006

Ce nouvel instrument de métrologie des états de surface sans contact permet la m...

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Spécial EUROBLECH 2006 : détection et classification des défauts d'aspect dans les ateliers d'emboutissage et d'assemblage avec le système de contrôle optique ABIS II de STEINBICHLER

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09/10/2006

Le système de mesure ABIS II peut identifier très tôt dans le processus de fabri...

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Spécial MICRONORA 2006 : une nouvelle gamme de profilomètres 2D et 3D de haute précision chez NANOJURA

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23/09/2006

L'architecture modulaire des systèmes permet de faire évoluer une machine déjà a...

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Spécial MICRONORA 2006 : NIKON INSTRUMENTS propose une nouvelle gamme de microscope de mesure MM-400 / MM-800

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18/09/2006

Ces microscopes dédiés à la Mesure proposent de nombreuses techniques d'observat...

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Lancement de ModelMaker D par METRIS : un laser scanner, comportant une réelle technologie de caméra numérique portable

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13/06/2006

Olivier Georis, Chef du département technologie chez Metris nous explique « Nous...

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